Напылительная установка Sputter-Coater
     
     
 
Напылительная установка Sputter-Coater

Напылительная установка Sputter-Coater

Технические характеристики:

Скорость откачки 210 л/с, разрешение 0,1 нм, скорость напыления - до 1000 нм/с



Назначение: Формирование наноструктур и контактов для электрофизических измерений.
Производитель:
Tectra GmbH, Германия
Год выпуска: 2006

К списку оборудования


 
     
     


8