Оборудование
     
     
 
Наименование:
Производитель:
Год выпуска с: по:
Технические характеристики:


Фото Наименование Лаборатория Назначение Технические характеристики
Инфракрасный спектрометр BRUKER IFS-66v /S в комплекте с приставкой комбинационного рассеяния Инфракрасный спектрометр BRUKER IFS-66v /S в комплекте с приставкой комбинационного рассеяния
Лаборатория колебательной спектроскопии Исследование структурных свойств, линейно-оптических характеристик, электронных свойств, адкомплексов на поверхности наноструктур.

Вакуумный, диапазон 40 - 12000 см-1, разрешение 0.5 см-1, приставки абсолютного отражения, отражения с переменным углом, МНПВО

Спектрометр комбинационного рассеяния света LabRAM Horiba HR800 Visible Спектрометр комбинационного рассеяния света LabRAM Horiba HR800 Visible
Лаборатория колебательной спектроскопии Исследование структурных свойств и фононного спектра материалов, в том числе наноматериалов. Используемые лазеры возбуждения: 633 и 488 нм, решетка: 1800 штр/мм, диапазон от -5000 до 5000 обр. см, картографирование
Спектрометр электронного парамагнитного резонанса ELEXSYS-E500-10/12 Спектрометр электронного парамагнитного резонанса ELEXSYS-E500-10/12
Лаборатория ЭПР спектроскопии Исследование структурных дефектов в наноматериалах. Спектрометр: рабочая частота 9,6 ГГц, Hmax =1 Тл. Чувствительность 5*1014 спин/Тл. 

Осветитель: исследование фотоиндуцированных процессов с участием дефектов в полупроводни-ковых структурах, в т.ч. наноструктурах. 

Источник питания: обеспечение бесперебойной работы ЭПР-спектрометра после прекращения подачи электроэнергии в течение 40 мин, фильтр защиты от высокочастотных помех.

В комплекс входит система температурного контроля для ЭПР- спектрометра.


Вакуумный универсальный пост ВУП-5М Вакуумный универсальный пост ВУП-5М
Лаборатория технологии формирования наноструктур Напыление различных покрытий и формирование контактов для электрофизических измерений.

Остаточн. давл.: P=10-4 Па. Ток накала испарителя: I=200 A. Макс. темп. нагрева образца: Т=1100 0С

Субтераваттный фемтосекундный комплекс на основе хром-форстеритового лазера Субтераваттный фемтосекундный комплекс на основе хром-форстеритового лазера
Лаборатория оптической характеризации наноструктур методами микроспектроскопии Исследование оптических и нелинейно-оптических свойств материалов, в том числе наноматериалов. Фемтосекундный лазерный комплекс: Длительность импульса на выходе не более 100 фс. Энергия лазерного импульса до 4 мДж (1,25 мкм), до 400 мкДж (в диапазоне 0,9 - 1,5 мкм). Плавная перестройка длины волны в диапазоне от 0.9 до 10 мкм. 

Пикосекундный лазер: На основной длине волны 1,064 мкм длительность импульса около 35 пс, энергия до 50 мДж. На длине волны второй гармоники 0,532 мкм энергия импульса до 25 мДж. 

Система регистрации: в т.ч. для исследования оптических сигналов в видимом и инфракрасном диапазонах (0,6 - 1,7 мкм) и их кинетик, временное разрешение 3 нс.
Aнализатор поверхности Quantachrome NOVA 4200e Aнализатор поверхности Quantachrome NOVA 4200e
лаборатория материаловедения Определение удельной поверхности и распределения пор по размерам пористых материалов.

Мин. пористость от 5 А.

Металлографический микроскоп Eclipse 600pol с термостатируемым держателем Металлографический микроскоп Eclipse 600pol с термостатируемым держателем
лаборатория материаловедения Исследование микроструктуры материалов при температурах до 1500 С

 Режимы: просвет и отраже-ние; увеличение 1000 крат, разрешение до 0,5 мкм, поляризация, цифровой вывод, диафрагма, темное поле, дифференциально-интерференцион-ный контраст, барабанные объективы, светофильтры

Растровый электронный микроскоп LeoSupra 50 VP c безазотным энергодисперсионным спектрометром для рентгеноспектрального микроанализа переоснащенный Растровый электронный микроскоп LeoSupra 50 VP c безазотным энергодисперсионным спектрометром для рентгеноспектрального микроанализа переоснащенный
лаборатория материаловедения Исследование микроструктуры, морфологии и локального состава материалов (в т.ч. наноматериалов)

Растровый электронный микроскоп LeoSupra 50 VP 

ускоряющее напряжение 100 В - 30 кВ; макс. увеличение 600000; разрешение <1 нм; разрешение EDX детектора 129 эВ на линии Kα(Mn), скорость счета до 100000 имп/с

Комплект переоснащения имеющегося растрового электронного микроскопа LEO Supra 50VP 

Безазотный энергодисперсионный спектрометр для рентгеноспектрального микроанализа к растровому электронному микроскопу LeoSupra 50 VP

Комплекс дифференциальнотермичес-кого и термогравиметрического анализа Diamond Pyris TG/DTA Комплекс дифференциальнотермичес-кого и термогравиметрического анализа Diamond Pyris TG/DTA
лаборатория материаловедения Проведение полного дифференциальнотермического и термогравиметрического анализа веществ и материалов (в т.ч. наноматериалов)

Диапазон температур 20-1500оС; Скорость нагрева 0.01-100оС/мин; чувствительность 0.2 мкг, 0.06 мкВ; атмосфера: воздух, инертный газ или вакуум (до 2 Торр), cкорость потока газа 0 - 1000 мл/мин

Спектрометр мессбауэровский МС-2020 Спектрометр мессбауэровский МС-2020
Лаборатория мессбауэровской спектроскопии Количество одновременно измеряемых спектров: 1 или 2 (по выбору); скоростная модуляция с треугольным, пилообразным и трапециевидным сигналом изменения скорости; скоростной шум не более 0,002% от максимальной скорости движения; максимальные рабочие значения скорости: 0.5 – 100 мм/с; максимальная нелинейность скоростной характеристики при максимальных скоростях: 0.5 —20 мм/с: <0.002% от Vmax, 20—100 мм/с: <0.01% от Vmax; дрейф нуля скорости при длительной работе: <0.001 мм/с; дрейф цены канала скорости при длительной работе в диапазоне регламентированных температур эксплуатации: <0.1% от цены канала; амплитуда шума скорости при величине максимальной скорости до 20 мм/с: <0.002 мм/с
Система высокопроизводительной прецизионной микрообработки изделий МикроСет Система высокопроизводительной прецизионной микрообработки изделий МикроСет
Лаборатория технологии формирования наноструктур Исследование и разработка микрофлюидных чипов для анализа образцов биожидкостей; ​разработка медицинских изделий в области имплантантологии и микрохирургии; ​разработка электронных компонент медицинской техники и приборов; ​исследования аддитивных технологий в медицине и разработка интегрированных решений; ​скрайбирование микрочипов на подложках из Si, SiO2, AsGa и Al2O3; ​исследование сверхширокополосных антенн с ультранизкими потерями; •​исследование и разработка прецизионных СВЧ керамических фильтров; ​исследование и разработка СВЧ плат с ультранизкими потерями для микросборок; ​исследование и разработка схемотехнических плат управления высокоэффективных и специальных вентильных двигателей; ​проведение экспериментов по применимости данного вида оборудования для изготовления деталей статоров вентильных электродвигателей из тонколистовой электротехнической стали с сохранением магнитных свойств.
Комплекс лазерно-индуцированного формирования наноструктур Комплекс лазерно-индуцированного формирования наноструктур
Лаборатория технологии формирования наноструктур Включает в себя импульсный Nd:YAG лазер на основной длине волны 1064 нм длительность импульса 10 нс, энергия до 1.5 Дж. На длинах волн второй (532 нм) и третьей (355 нм) гармоник энергия импульса до 800 и 350 мДж. Параметрический генератор света позволяет плавно перестраивать длину холостой волны от 1.1 до 2.5 мкм. Назначение: лазерно-индуцированное формирование наноструктур и исследование их оптических и нелинейно-оптических свойств.
Программно-аппаратный комплекс считывания информации на основе трансляторов Aerotech Программно-аппаратный комплекс считывания информации на основе трансляторов Aerotech
Лаборатория технологии формирования наноструктур Комплекс оборудован: 1) высокоскоростной камерой машинного зрения Cyclone-2-2000, осуществляющей съемку со скоростью от 2000 кадров/с при разрешении кадра 1920х1080 точек 2) системой пневмомеханических трансляторов Aerotech ABL1000WB–100, ABL1000–100 и ABL1000–025–ES19694, позволяющих осуществлять позиционирование по трем осям в диапазоне от -10см +10см (x, y) или 0 +2см (z) с точностью до 100 нм. 3) системой заведения и сбора излучения в составе: * импульсный лазер 0515L-21C-NI-NT-NF (длина волны 515 нм, длительность импульса 10 нс, частота следования импульсов 35 кГц), * непрерывный оптоволоконный лазер 0532L-11B-NI-NT-NF (длина волны 532 нм), * жидкокристаллическая полуволновая фазовая пластина LCC1111T-A, изменяющая запаздывание между обыкновенным и необыкновенным лучами на величину от 0 до λ/2 с частотой до 200 Гц, * длиннофокусный объектив Edmund Optics 59-878 (увеличение 20х, фокусное расстояние 2 см) Для работы комплекса также используются: 1) персональный компьютер, оборудованный платой захвата изображения Kaya KY-FGK-400 2) персональный компьютер с контроллером пневмомеханических трансляторов XR3 3) монтажный стенд в составе: спиральный безмасляный компрессор с ресивером и осушителем воздуха Remeza, система воздухораспределения, очистки и осушения в составе воздушного крана HE-D-MINI, редуктора LFR-D-MINI, фильтров FRM-D-MINI, LFMB-D-MINI-DA-A, LFMA-D-MINI-DA-A, LFX-D-MINI, клапана плавного пуска HEL-D-MINI, разветвителя FR-4-1/4; компрессор 1VIS-BB, оптический стол 1HT на пневматических вибропоглощающих опорах.
Настольный рентгеновский дифрактометр MiniFlex 600 Настольный рентгеновский дифрактометр MiniFlex 600
Лаборатория рентгеноструктурного анализа Мощность: 600 Вт;  радиус гониометра 150 мм; матричный детектор HyPix-400, 2Д режим; высокоскоростной энергодисперсионный детектор D/teX Ultra 250; Юстировка прибора выполняется пользователем.
Комплекс спектроскопический эллипсометр-профилометр Комплекс спектроскопический эллипсометр-профилометр
лаборатория оптической характеризации Спектральный диапазон: 190–2100 нм. Диапазон измеряемых толщин пленок от 0,1 нм до 100 микрон. Система детектирования с фазовой модуляцией и частотой модуляции 50 кГц. Измерение не менее 12 элементов матрицы Мюллера. Измерение деполяризации. Система визуализации образца с возможностью получения цветного изображения образцов в режиме реального времени и расположением камеры в детектирующей головке для оптимизации положения микропятна на образце. Видимое поле системы визуализации образца 4 мм х 3 мм при 70 градусах. Цветная ПСЗ матрица системы визуализации образца размером 752 х 576 пикселей. Двойной монохроматор для УФ и видимого диапазона со спектральным диапазоном 190–1000 нм. Спектральное разрешение 0,3 нм при ширине щели двойного монохроматора для УФ и видимого диапазона 100 микрон, с точностью установки длины волн двойного монохроматора для УФ и видимого диапазона +-0,15 нм, с моторизированными щелями и наличием двух ФЭУ, сопряженных с двойным монохроматором для УФ и видимого диапазона. Монохроматор ближнего ИК-диапазона со спектральным диапазоном 1000–2100 нм, спектральным разрешением 0,8 нм при ширине щели монохроматора ближнего ИК-диапазона 100 микрон, точностью установки длины волны монохроматора ближнего ИК-диапазона +-0,2 нм, моторизованными щелями и InGaAs детектором. Автоматизированный гониометр, управляемый компьютером с диапазоном углов падения 35–90 градусов, точностью установки угла 0,1 градус и наличием автоматической калибровки гониометра. Автоматизированный трехкоординатный столик управляемый компьютером с размерами 200 мм х 200 мм, наличием на автоматизированном столике двух сравнительных образцов для автокалибровки, наличием автоматической регулировки высоты столика с автофокусом с длиной автоматической регулировки высоты столика с автофокусом не менее 40 мм, с наличием вакуумного прижима образца, с наличием автоматического картирования образцов, с наличием моторизованного наклона столика для образца. Автоматическая система выбора микропятна, управляемая компьютером с наличием ахроматических микропятен на зеркалах, числом возможных размеров микропятен 8 и наименьшим размером микропятна 50 мкм х 50 мкм.
Многоугловой анализатор размеров частиц (Photocor Complex) Многоугловой анализатор размеров частиц (Photocor Complex)
лаборатория оптической характеризации Позволяет измерять размеры частиц, коэффициенты диффузии и молекулярной массы методами статического и динамического рассеяния света в широком диапазоне углов рассеяния. Размер частиц: от 0,5 нм до 10 мкм (диаметр). Коэффициент диффузии: 10–5 ... 10–10 см2/с Молекулярный вес: 1000 Да ... 20 МДа. Объем образца: от 50 мкл до 20 мл.
Высокоскоростной тепловизор Telops FAST M200 Высокоскоростной тепловизор Telops FAST M200
лаборатория оптической характеризации Тип детектора: КРТ охлаждаемый. Спектральный диапазон: 1,5–5,1 мкм. Пространственное разрешение 640 × 512 пиксел. DETECTOR PITCH 15 μm Апертура F/3. FRAME RATE 5 600 Hz @ 136 x 2 MAXIMUM FRAME RATE 760 Hz @ 320 x 256 210 Hz @ 640 x 512 TYPICAL NETD 18 mK Время экспозиции 0,17 мкс to full frame rate LENS MOUNT Bayonet interface
Комплекс для регистрации быстропротекающих процессов, включающий высокоскоростную камеру Evercam HR 2000-128-C Комплекс для регистрации быстропротекающих процессов, включающий высокоскоростную камеру Evercam HR 2000-128-C
лаборатория оптической характеризации Тип сенсора: цветной. Разрешение сенсора 2560 х 1920 пиксел. Технология сенсора CMOS. Формат сенсора 4/3”. Чувствительность сенсора 20 V/ Lux-s на длине волны 550 нм. Квантовая эффективность сенсора >45% на длине волны 550 нм. Динамический диапазон 8/10 бит Размер пиксела 7.8 мкм. Длительность записи на предельном потоке 12.99 с. Предельная частота кадров: до 87800 к/c. Минимальное время экспозиции 1 мкс с шагом в 1 мкс. Тип затвора Global Shutter. Запись по внешнему источнику сигнала. Максимальное удаление от станции без репитера 100 м. Чувствительность ISO 5000. Гамма-коррекция изображения. Возможность пользовательской калибровки. Охлаждение активное воздушное.
Одночастотный непрерывный лазер c длиной волны 532 нм Одночастотный непрерывный лазер c длиной волны 532 нм
лаборатория оптической характеризации
УФ-Вид спектрофотометр экспертного уровня в комплекте УФ-Вид спектрофотометр экспертного уровня в комплекте
лаборатория оптической характеризации Tехнология двойного монохроматора в сочетании с  голографической решеткой: диапазон длин волн 185–900 нм. Широкий выбор режимов работы: спектральный, фотометрический, кинетический, количественный анализ. Ультранизкий уровень рассеянного излучения ≤0.00002%T. Изменяемая ширина щели 0,1–5,0 нм с шагом 0,1 нм. Приставки для измерения: Двулучевая приставка относительного зеркального отражения. Автоматический двулучевой термостатируемый держатель на 5 кювет. Держатель твердых образцов с регулируемым углом. Двулучевой автоматический пятипозиционный держатель для кювет с длиной оптического пути от 5мм до 50 мм. Двухлучевая интегрирующая сфера 150 мм, работающая в диапазоне 200–850 нм. Дополнительное оборудование: Система скоростной фильтрации проб с многоразовыми фильтрами, имеющими двухстороннее винтовое соединение.

Оборудование 1 - 20 из 83
Начало | Пред. | 1 2 3 4 5 | След. | Конец | Все
 
     
     


3